常駐
その他,サーバーサイド
【埼玉・常勤】最新技術を駆使した装置開発業務
月額報酬
¥
280,000〜440,000
稼働日数
週5日
勤務地
東京都
小作駅, 金子駅
案件の内容
【プロジェクト概要】 ・プラズマCVD装置の運転と成膜評価 ・Roll to Rollでのフィルムへの金属膜蒸着装置の開発 プロジェクトの影響力：次世代の半導体製造プロセスに大きな影響を与えるプロジェクトです チームの特徴：専門性の高いエンジニアチームと協力し、技術的なチャレンジに取り組むことができます 【技術詳細】 アーキテクチャ：プラズマCVD装置およびRoll to Roll蒸着装置のハードウェア設計とプロセス開発 開発プロセス：アジャイル開発手法を採用し、定期的なレビューとフィードバックを通じてプロジェクトを進行します 技術スタック： ・CVD技術 ・成膜技術 ・蒸着技術 ・フィルム技術
プロジェクト背景
【ビジネス背景】 半導体産業における新しい製造技術の需要が高まっているため、欠員補充として募集しています 【プロジェクト規模】 中規模から大規模なプロジェクトで、数ヶ月から数年単位で進行します 【成長機会】 専門性の高い技術スキルを磨くことができ、キャリアアップに繋がります
スキル要件
必須スキル
CVD装置の開発、成膜と膜評価
または
蒸着装置の装置開発、プロセス開発
歓迎スキル
太陽電池向けCVD装置の開発、太陽電池向けa-Siの成膜
または
薄膜フィルムへのRoll to Rollでの金属膜蒸着装置の開発
スキル補足
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